{"product_id":"edwards-stp-xa2703cv-turbomolecular-pump","title":"Edwards STP-XA2703CV Turbomolecular Pump","description":"\u003cp\u003eThe Edwards (Seiko Seiki) STP-XA2703CV is a high-throughput, magnetically levitated turbomolecular pump engineered for ultra-clean, oil-free high-vacuum applications. Featuring a 5-axis active magnetic suspension system, it completely eliminates mechanical friction and oil lubrication, delivering low vibration and exceptional continuous process reliability. The \"CV\" process variant provides advanced anti-corrosion protection and thermal management for harsh semiconductor etching and chemical vapor deposition processes.\u003c\/p\u003e\n\u003ch3\u003eTechnical Specifications\u003c\/h3\u003e\n\u003cdiv class=\"horizontal-scroll-wrapper\"\u003e\n\u003cdiv class=\"table-block-component\"\u003e\n\u003cdiv class=\"table-block has-export-button new-table-style is-at-scroll-start is-at-scroll-end\"\u003e\n\u003cdiv class=\"table-content md-content\"\u003e\n\u003ctable\u003e\n\u003cthead\u003e\n\u003ctr\u003e\n\u003cth\u003e\u003cspan\u003eParameter\u003c\/span\u003e\u003c\/th\u003e\n\u003cth\u003e\u003cspan\u003eSpecification Details\u003c\/span\u003e\u003c\/th\u003e\n\u003c\/tr\u003e\n\u003c\/thead\u003e\n\u003ctbody\u003e\n\u003ctr\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e\u003cb\u003ePart Number\u003c\/b\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003ePT66-16-050\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003c\/tr\u003e\n\u003ctr\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e\u003cb\u003eModel\u003c\/b\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003eSTP-XA2703CV\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003c\/tr\u003e\n\u003ctr\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e\u003cb\u003eInlet Flange\u003c\/b\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003eISO250F \/ VG250\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003c\/tr\u003e\n\u003ctr\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e\u003cb\u003eOutlet Flange\u003c\/b\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003eKF40 (NW40)\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003c\/tr\u003e\n\u003ctr\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e\u003cb\u003ePumping Speed (N2)\u003c\/b\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e2,650 L\/s\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003c\/tr\u003e\n\u003ctr\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e\u003cb\u003eCompression Ratio (N2)\u003c\/b\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e\u0026gt; 10⁸\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003c\/tr\u003e\n\u003ctr\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e\u003cb\u003eBearing System\u003c\/b\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e5-Axis Active Magnetic Levitation\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003c\/tr\u003e\n\u003ctr\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e\u003cb\u003eCooling Method\u003c\/b\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003eWater Cooled\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003c\/tr\u003e\n\u003ctr\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e\u003cb\u003eCompatible Controller\u003c\/b\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003eEdwards \/ Seiko Seiki SCU-1400 \/ SCU-1500 \/ SCU-1600 Series\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003c\/tr\u003e\n\u003ctr\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e\u003cb\u003eDimensions\u003c\/b\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003eApprox. 19.8\" H x 14.2\" Outer Diameter (503 mm x 360 mm)\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003c\/tr\u003e\n\u003ctr\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e\u003cb\u003eWeight\u003c\/b\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e~165 lbs (75 kg)\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003c\/tr\u003e\n\u003c\/tbody\u003e\n\u003c\/table\u003e\n\u003c\/div\u003e\n\u003c\/div\u003e\n\u003c\/div\u003e\n\u003c\/div\u003e\n\u003ch3\u003e\u003c\/h3\u003e\n\u003ch3\u003eTarget Applications\u003c\/h3\u003e\n\u003cul\u003e\n\u003cli\u003e\n\u003cp\u003eSemiconductor Wafer Fabrication (Plasma Etch, CVD, PVD, Ion Implantation)\u003c\/p\u003e\n\u003c\/li\u003e\n\u003cli\u003e\n\u003cp\u003eFlat Panel Display (FPD) Vacuum Process Systems\u003c\/p\u003e\n\u003c\/li\u003e\n\u003cli\u003e\n\u003cp\u003eSolar \u0026amp; Photovoltaic Layer Deposition\u003c\/p\u003e\n\u003c\/li\u003e\n\u003cli\u003e\n\u003cp\u003eCorrosive \u0026amp; Reactive Process Gas Handling\u003c\/p\u003e\n\u003c\/li\u003e\n\u003cli\u003e\n\u003cp\u003eUltra-High Vacuum (UHV) Research Facilities\u003c\/p\u003e\n\u003c\/li\u003e\n\u003c\/ul\u003e","brand":"Edwards","offers":[{"title":"Default Title","offer_id":48364432031933,"sku":null,"price":20395.0,"currency_code":"USD","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0662\/1016\/9021\/files\/EdwardsSTP-XA2703CV_1.jpg?v=1788388747","url":"https:\/\/labvac.com\/products\/edwards-stp-xa2703cv-turbomolecular-pump","provider":"Labvac","version":"1.0","type":"link"}