{"product_id":"edwards-stp-f2203c-turbomolecular-pump","title":"Edwards STP-F2203C Turbomolecular Pump","description":"\u003cp\u003eThe Edwards (Seiko Seiki) STP-F2203C is a high-capacity, magnetically levitated turbomolecular pump engineered for demanding high-throughput semiconductor and thin-film processes. Featuring advanced rotor blade geometry and a 5-axis active magnetic bearing system, it provides hydrocarbon-free high vacuum with zero mechanical friction, ensuring low vibration and maintenance-free continuous operation. The chemical process variant (\"C\" series) features specialized coatings and corrosive gas protection, making it ideal for aggressive etch, chemical vapor deposition (CVD), and ion implantation applications.\u003c\/p\u003e\n\u003ch3\u003eTechnical Specifications\u003c\/h3\u003e\n\u003cdiv class=\"horizontal-scroll-wrapper\"\u003e\n\u003cdiv class=\"table-block-component\"\u003e\n\u003cdiv class=\"table-block has-export-button new-table-style is-at-scroll-start is-at-scroll-end\"\u003e\n\u003cdiv class=\"table-content md-content\"\u003e\n\u003ctable\u003e\n\u003cthead\u003e\n\u003ctr\u003e\n\u003cth\u003e\u003cspan\u003eParameter\u003c\/span\u003e\u003c\/th\u003e\n\u003cth\u003e\u003cspan\u003eSpecification Details\u003c\/span\u003e\u003c\/th\u003e\n\u003c\/tr\u003e\n\u003c\/thead\u003e\n\u003ctbody\u003e\n\u003ctr\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e\u003cb\u003ePart Number\u003c\/b\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003ePT50-0Z-006\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003c\/tr\u003e\n\u003ctr\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e\u003cb\u003eInlet Flange\u003c\/b\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003eVG250 (ISO-250F)\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003c\/tr\u003e\n\u003ctr\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e\u003cb\u003eOutlet Flange\u003c\/b\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003eKF-40 (NW40)\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003c\/tr\u003e\n\u003ctr\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e\u003cb\u003ePumping Speed (N2)\u003c\/b\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e2,200 L\/s\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003c\/tr\u003e\n\u003ctr\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e\u003cb\u003ePumping Speed (H2)\u003c\/b\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e1,200 L\/s\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003c\/tr\u003e\n\u003ctr\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e\u003cb\u003eBearing System\u003c\/b\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e5-Axis Active Magnetic Levitation\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003c\/tr\u003e\n\u003ctr\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e\u003cb\u003eRated Speed\u003c\/b\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e27,000 RPM\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003c\/tr\u003e\n\u003ctr\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e\u003cb\u003eCooling Method\u003c\/b\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003eWater Cooled\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003c\/tr\u003e\n\u003ctr\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e\u003cb\u003eMounting Orientation\u003c\/b\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003eAny Direction \/ Universal\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003c\/tr\u003e\n\u003ctr\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e\u003cb\u003eCompatible Controller\u003c\/b\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003eEdwards SCU-1400 \/ SCU-1500 Series\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003c\/tr\u003e\n\u003ctr\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e\u003cb\u003eDimensions\u003c\/b\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003eApprox. 18.5\" H x 13.8\" Outer Diameter (470 mm x 350 mm)\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003c\/tr\u003e\n\u003ctr\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e\u003cb\u003eWeight\u003c\/b\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e~134.5 lbs (61 kg)\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003c\/tr\u003e\n\u003c\/tbody\u003e\n\u003c\/table\u003e\n\u003c\/div\u003e\n\u003c\/div\u003e\n\u003c\/div\u003e\n\u003c\/div\u003e\n\u003ch3\u003e\u003c\/h3\u003e\n\u003ch3\u003eTarget Applications\u003c\/h3\u003e\n\u003cul\u003e\n\u003cli\u003e\n\u003cp\u003eSemiconductor Wafer Manufacturing (Plasma Etch, CVD, PVD, Ion Implantation)\u003c\/p\u003e\n\u003c\/li\u003e\n\u003cli\u003e\n\u003cp\u003eIndustrial Surface Coating \u0026amp; Thin-Film Deposition\u003c\/p\u003e\n\u003c\/li\u003e\n\u003cli\u003e\n\u003cp\u003eFlat Panel Display (FPD) Vacuum Systems\u003c\/p\u003e\n\u003c\/li\u003e\n\u003cli\u003e\n\u003cp\u003eSolar \u0026amp; Photovoltaic Cell Production\u003c\/p\u003e\n\u003c\/li\u003e\n\u003cli\u003e\n\u003cp\u003eUltra-High Vacuum (UHV) Research Facilities\u003c\/p\u003e\n\u003c\/li\u003e\n\u003c\/ul\u003e","brand":"Edwards","offers":[{"title":"Default Title","offer_id":47982514471101,"sku":null,"price":15495.0,"currency_code":"USD","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0662\/1016\/9021\/files\/EdwardsSTP-F2203C_1.jpg?v=1786549665","url":"https:\/\/labvac.com\/products\/edwards-stp-f2203c-turbomolecular-pump","provider":"Labvac","version":"1.0","type":"link"}