{"product_id":"cti-cryogenics-is-320f-cryopump","title":"CTI-Cryogenics IS-320F Cryopump","description":"\u003cp\u003eThe \u003cb\u003eCTI IS-320F Cryopump\u003c\/b\u003e (Part Number: \u003cb\u003eE31055345\u003c\/b\u003e) is a high-performance, flat-profile cryogenic vacuum pump designed for demanding industrial, semiconductor, and high-vacuum research applications. Engineeed by CTI-Cryogenics (Brooks Automation), the IS-320F delivers reliable, hydrocarbon-free ultra-high vacuum (UHV) pumping speeds for water vapor, air, argon, and light gases. Its compact, low-profile horizontal\/flat configuration allows for direct mounting where vertical clearance is limited.\u003c\/p\u003e\n\u003ch2\u003eKey Features\u003c\/h2\u003e\n\u003cul\u003e\n\u003cli\u003e\n\u003cp\u003e\u003cb\u003eHigh Pumping Speed \u0026amp; Capacity:\u003c\/b\u003e Optimized arrays deliver rapid drawdown and exceptional crossover pressures for water vapor, hydrogen, helium, and atmospheric gases.\u003c\/p\u003e\n\u003c\/li\u003e\n\u003cli\u003e\n\u003cp\u003e\u003cb\u003eHydrocarbon-Free Vacuum:\u003c\/b\u003e Clean cryogenic trapping eliminates oil backstreaming risks, protecting critical vacuum processes and substrates.\u003c\/p\u003e\n\u003c\/li\u003e\n\u003cli\u003e\n\u003cp\u003e\u003cb\u003eLow-Profile Design:\u003c\/b\u003e Flat-mounting geometry minimizes spatial footprint in tight system architectures and OEM integrations.\u003c\/p\u003e\n\u003c\/li\u003e\n\u003cli\u003e\n\u003cp\u003e\u003cb\u003eRobust Thermal Efficiency:\u003c\/b\u003e Compatible with standard CTI helium compressors (such as 8200, 8500, or 9600 series) to ensure thermal stability under heavy gas loads.\u003c\/p\u003e\n\u003c\/li\u003e\n\u003cli\u003e\n\u003cp\u003e\u003cb\u003eLow Maintenance Operation:\u003c\/b\u003e Extended duty cycles between regeneration cycles maximize equipment uptime and operational reliability.\u003c\/p\u003e\n\u003c\/li\u003e\n\u003c\/ul\u003e\n\u003ch2\u003eTechnical Specifications\u003c\/h2\u003e\n\u003cdiv class=\"horizontal-scroll-wrapper\"\u003e\n\u003cdiv class=\"table-block-component\"\u003e\n\u003cdiv class=\"table-block has-export-button new-table-style is-at-scroll-start is-at-scroll-end\"\u003e\n\u003cdiv class=\"table-content md-content\"\u003e\n\u003ctable\u003e\n\u003cthead\u003e\n\u003ctr\u003e\n\u003cth\u003e\u003cspan\u003eParameter\u003c\/span\u003e\u003c\/th\u003e\n\u003cth\u003e\u003cspan\u003eSpecification\u003c\/span\u003e\u003c\/th\u003e\n\u003c\/tr\u003e\n\u003c\/thead\u003e\n\u003ctbody\u003e\n\u003ctr\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e\u003cb\u003eManufacturer\u003c\/b\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003eCTI-Cryogenics \/ Brooks Automation\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003c\/tr\u003e\n\u003ctr\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e\u003cb\u003eModel\u003c\/b\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003eIS-320F\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003c\/tr\u003e\n\u003ctr\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e\u003cb\u003ePart Number\u003c\/b\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003eE31055345\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003c\/tr\u003e\n\u003ctr\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e\u003cb\u003ePump Type\u003c\/b\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003eHigh-Vacuum Cryogenic Pump (Flat Profile)\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003c\/tr\u003e\n\u003ctr\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e\u003cb\u003eFlange Type \/ Size\u003c\/b\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003eISO-320 F (Fixed Flange)\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003c\/tr\u003e\n\u003ctr\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e\u003cb\u003ePumping Speed (Water Vapor)\u003c\/b\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e~11,000 L\/s\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003c\/tr\u003e\n\u003ctr\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e\u003cb\u003ePumping Speed (Air)\u003c\/b\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e~3,200 L\/s\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003c\/tr\u003e\n\u003ctr\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e\u003cb\u003ePumping Speed (Hydrogen)\u003c\/b\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e~4,000 L\/s\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003c\/tr\u003e\n\u003ctr\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e\u003cb\u003eArgon Capacity\u003c\/b\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e~1,200 Std Liters\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003c\/tr\u003e\n\u003ctr\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e\u003cb\u003eHydrogen Capacity\u003c\/b\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e~18 Std Liters\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003c\/tr\u003e\n\u003ctr\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e\u003cb\u003eRegeneration Type\u003c\/b\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003eStandard \/ Automated Compatible\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003c\/tr\u003e\n\u003ctr\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e\u003cb\u003eCompressor Compatibility\u003c\/b\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003eCTI 8200, 8500, 9600 Series\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003c\/tr\u003e\n\u003ctr\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e\u003cb\u003eDrive Voltage \/ Electrical\u003c\/b\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003eStandard CTI 5-Pin Diode\/Sensor Interface\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003c\/tr\u003e\n\u003ctr\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e\u003cb\u003eWeight\u003c\/b\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003ctd\u003e\u003cspan\u003e~100 lbs (45.4 kg)\u003c\/span\u003e\u003c\/td\u003e\n\u003c\/tr\u003e\n\u003c\/tbody\u003e\n\u003c\/table\u003e\n\u003c\/div\u003e\n\u003c\/div\u003e\n\u003c\/div\u003e\n\u003c\/div\u003e\n\u003ch2\u003e\u003c\/h2\u003e\n\u003ch2\u003eCommon Applications\u003c\/h2\u003e\n\u003cul\u003e\n\u003cli\u003e\n\u003cp\u003e\u003cb\u003eSemiconductor Processing:\u003c\/b\u003e Physical Vapor Deposition (PVD), Sputtering, and Ion Implantation chambers.\u003c\/p\u003e\n\u003c\/li\u003e\n\u003cli\u003e\n\u003cp\u003e\u003cb\u003eThin-Film Deposition:\u003c\/b\u003e Optical coating, solar cell manufacturing, and web coating systems.\u003c\/p\u003e\n\u003c\/li\u003e\n\u003cli\u003e\n\u003cp\u003e\u003cb\u003eSurface Analysis \u0026amp; Vacuum Research:\u003c\/b\u003e Electron microscopy, surface science instrumentation, and space simulation chambers.\u003c\/p\u003e\n\u003c\/li\u003e\n\u003cli\u003e\n\u003cp\u003e\u003cb\u003eIndustrial Vacuum:\u003c\/b\u003e Furnace evacuating and high-purity thermal process chambers.\u003c\/p\u003e\n\u003c\/li\u003e\n\u003c\/ul\u003e","brand":"Edwards","offers":[{"title":"Default Title","offer_id":47958931505341,"sku":null,"price":7499.0,"currency_code":"USD","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0662\/1016\/9021\/files\/CTICryoIS-320FOnboard_1.jpg?v=1786123400","url":"https:\/\/labvac.com\/products\/cti-cryogenics-is-320f-cryopump","provider":"Labvac","version":"1.0","type":"link"}